二手 AIXTRON G3 #9163470 待售

AIXTRON G3是一種創新的激光驅動、水平型、低壓冷壁化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於生產半導體材料。該反應堆是世界上第一個借助強大的AIXTRON激光設備，將對生長速度、溫度、氧氣濃度和沈積均勻性的精確控制相結合的反應堆。AIXTRON G 3能夠處理多種材料，包括Si、SiGe、InP、III-V氮化物和氧化物，溫度範圍從室溫到930 °C不等。它也適用於小面積外延，是生產高性能集成光子元件的理想選擇。反應堆由一個內置兩區工藝法蘭的不銹鋼真空室、一個AIXTRON激光系統、一個冷卻器、一個石英窗和一個控制單元組成。加工室內部有兩個隔間：一個「冷墻」和一個「熱區」。冷壁控制底物溫度，而熱區則用於沈積。AIXTRON激光單元是為G3供電的關鍵部件。它使用兩個專門的激光束來精確控制氣流，並產生所需的功率水平進行沈積。控制單元在設定生長速率、溫度、氧氣濃度和沈積均勻性時允許靈活性。此外，冷卻器確保基板溫度保持在要求的範圍內。G3是一款用途廣泛、功能強大但易於使用的機器,可提供高質量的材料。它提供了可重現的工藝條件和可靠的無粒子生長和非常低的缺陷密度。這座先進的CVD反應堆適用於光電、MEMS器件等領域的研究和工業應用。它目前正在推動諸如集成光子學等領域的界限，預計這些領域將產生巨大的影響。