二手 AIXTRON G3 #9187985 待售

AIXTRON G3是由位於基爾的德國公司AIXTRON開發的反應堆模型。它是一種金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）反應器，用於生長基於砷化的、用於III-V化合物半導體應用的材料（GaAs）。AIXTRON G 3能夠實現高質量的外延和均勻性，從而允許生產光電元件如激光、發光二極管（LED）和光電探測器。G3具有多種安全和高效功能,有助於確保可靠的運行。首先，G3有一個「烘烤」設備，用於防止外延膜形成問題的艙室和氣流優化。其次，單級VAR快門可防止不需要的蝕刻物種入侵。第三，噴射發電機防止導電表面的過度侵蝕，並允許最佳基板溫度在生長過程中。最後，可以使用安全快門防止汙染物進入反應室。AIXTRON G3還設有側面入口系統，將粒子進入生長室的風險降至最低。此外，它的石英窗口允許在生長過程中容易觀察。自動閘門控制、腔室過壓保護、流線型基板傳遞機器人等功能有助於確保優化過程並降低出現問題的風險。AIXTRON G3使用壓力平衡控制單元調節溫度，使生長速率、層厚和相位的控制更加嚴格。這有助於確保均勻性和可重復的層增長。主動冷卻機有助於保持外延所需的精確溫度。此外，一個新的噴嘴設計允許均勻增長和提高膜的均勻性。G3多年來設計易於維護和可靠運行。強大的模塊化設計可輕松更換任何部件,並有助於最大程度地減少停機時間。G3配備了一種排氣工具，能夠進行氣體氧化和工藝後清洗。它還具有堅固的接觸冷卻資產和石英玻璃密封，以確保與基板的安全和無泄漏連接。AIXTRON G3是各種III-V復合半導體材料的高效可靠的反應器溶液。它結合了安全特性、基板傳遞機器人、控制模型和先進的冷卻設備，確保了嚴格的過程控制和可靠的操作。其質量一致、缺陷小的產品，使其適合多樣化、高產的半導體生產應用。