二手 AIXTRON G4-TM #293636228 待售

AIXTRON G4-TM是由AIXTRON設計制造的第四代反應堆，用於無定形、多晶和微晶薄膜等材料薄膜的工業規模沈積。AIXTRON G4 TM是一種最先進的反應堆,具有獨特的原位停止電源傳感器,可實時調節目標電源。這確保了整個沈積過程中準確可靠的過程控制。該反應堆的設計目的是在工業工藝水平上提供多用途和高通量的薄膜沈積。它提供了廣泛的基材尺寸、材料均勻性和沈積速率，以及出色的薄膜特性均勻性，如組成、光學和電性能。其緊湊的設計和優良的控制特性，使得高通量，經濟高效的沈積在薄膜塗層的生產。G4-TM提供了多種高級功能,使其成為薄膜沈積的理想選擇。其中包括一個能量監測系統，以跟蹤和監測沈積能量，使薄膜參數均勻，並防止諸如剪切邊緣、剝落、開裂和變色等缺陷。采用較高的沈積壓力，以提高沈積速度和均勻性。與其他反應堆相比，改進了自動化以降低人工和耗材成本，並降低了維護成本。反應堆由專門為G4 TM沈積設計的大功率射頻發電機供電。這種發電機為200至1,000瓦提供精確和均勻的功率，使各種材料和合金的薄膜沈積具有各種操作模式。AIXTRON G4-TM提供出色的過程控制、可定制的參數和自動化操作。原位制動功率傳感器能夠自動調節目標功率，確保在整個過程中準確、可靠和經濟高效的沈積。其反應時間短，精度高，保證了薄膜沈積結果的重復性和與其他沈積系統無法達到的極好的均勻性。此外,AIXTRON G4 TM反應堆設計靈活,易於集成到工廠系統中。它有單室和雙室兩種型號，以滿足不同的應用需求。該系統與各種氣體、材料和硬件兼容，以實現更高效的沈積過程。總體而言，G4-TM是一種先進的工業規模的薄膜沈積反應器，可提高薄膜的均勻性、工藝的可重復性和成本效益。憑借其先進的特點和多用途的配置，可用於生產符合最高質量標準的多種薄膜塗料。