二手 AIXTRON G4-TM #9364578 待售

AIXTRON G4-TM是為化學氣相沈積（CVD）、原子層沈積（ALD）或分子束外延（MBE）等應用而設計的高真空反應器。AIXTRON G4 TM專為金剛石、氧化物等半導體材料的最佳生長而設計，並以AIXTRON試用和測試的熱壁CVD技術為基礎。反應堆的腔室以僅1 x 0.4米的緊湊尺寸建造，以減少安裝足跡。雙分流管設計能夠在調節廢水反應物註射角的同時實現均勻的熱電分布。基板由下方加熱，氣體分布通過腔室底部有多變的噴射口歧管的噴射器系統。為了過程控制和易用性G4-TM，它配備了直觀的圖形用戶界面，顯示虛擬過程和圖形過程。G4 TM能夠產生高達5.5氮化硼（BN）單層的金剛石晶體以及III組氮化物層，包括GaN、AlN和InN。AIXTRON G4-TM還配備了內置壓力監控器和背景壓力控制系統。壓力可以降低到5 x 10-8毫巴的基壓，允許更高的質量和可重現的生長周期。為了使AIXTRON G4 TM的輸出最大化，它還結合了基板和噴射器兩個獨立的溫度控制。這樣可以進行精確的溫度控制,以達到所需的工藝結果。安全方面，G4-TM密封，符合安全標準，如CE Marking、ATEX 94/9/EC、NFС990H2和UL Class 1 Division 1。反應堆還設計有可點火的安全氣氛和過載保護，使其在納米技術工業中用於實驗室和商業應用極為安全。總體而言，G4 TM是一種高度可靠和先進的CVD/ALD/MBE反應堆，能夠生產高質量的金剛石、氧化物和其他半導體材料。其直觀的圖形用戶界面使其易於使用和安全，其內置的安全特性使其成為納米技術行業中適合實驗室和商業應用的工具。