二手 AIXTRON G4 #293652203 待售

AIXTRON G4是一種充氣、線性、連續波、感應耦合的反應性離子蝕刻（RIE）反應器，用於納米技術和半導體制造業的蝕刻和沈積過程。它是前所未有的性能、可靠性和過程控制級別的來源。AIXTRON G4具有堅固可靠的腔室設計，具有創新的氣體管理系統，以改善氣流均勻性，確保對基板的影響最小，減少腔室維護。該室配有先進的全自動工藝配方，沈積範圍和均勻性極廣。它還提供了反應性離子蝕刻（RIE）、原子層沈積（ALD）、電子束蒸發和濺射沈積等多種工藝能力。G4能夠在1微米以下產生高品質、極嚴密的耐受特性。低壓能力使蝕刻速度更快，而腔室壓力可以預先設定以達到最佳蝕刻速率。其均勻冷卻，確保了加熱器溫度均勻穩定。電源是模塊化的,便於維護和升級蝕刻和沈積功能。較快的電源斜坡上升速率使蝕刻和沈積過程得到更好的控制和精度。此外，G4還配備了光發射系統，可準確測量工藝壓力和腔室溫度，提高工藝控制和能效。AIXTRON G4設計用於各種基材樣品的小面積和大面積加工。該系統還集成了廣泛的用於真空、氣體、加熱和等離子體控制的組件。這種強大的功能組合允許無與倫比的可靠性和過程控制,從而確保高吞吐量和可重復性。總體而言，AIXTRON G4是廣泛蝕刻和沈積工藝的絕佳選擇，在半導體和其他納米技術制造操作中提供了改進的工藝控制、均勻性和吞吐量。它是減少循環時間和改進蝕刻和沈積過程的強大而可靠的工具。