二手 AIXTRON G4 #9206743 待售

AIXTRON G4是一種垂直化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於薄膜材料的外延生長。實現可靠、可重復和可控的CVD流程是由獨特的流程優化就緒平臺實現的。它受到全球許多領先研究實驗室和工業中心的信任,提供了最高的精度和最佳的性能。AIXTRON G 4的反應堆具有纖細的垂直設計，允許較大的生長空間和最佳的表面溫度平衡。反應堆室為避免熱輻射而高度絕緣，從而確保底物上的溫度分布完全均勻。這可以產生均勻的層結構和改進的層質量。G4具有廣泛的功能,旨在最大程度地提高均勻性和可重復性。例如，它具有精細的氣體流動系統，有助於保持沈積室中均勻的質量傳輸。它還具有可配置的工藝參數，如熱速和沈積溫度，可以精確調整。此外，G4配備了出色的真空密封性，保證了清潔高效的薄膜生長過程。AIXTRON G4也是研發的強大工具。它提供了修改和分析加工參數所需的準確性和靈活性，如氣體成分、基板溫度、工藝速率、應用壓力等。這樣可以快速調整和優化工藝和材料。這反過來又激發了創造力，並有助於加快新工藝技術和材料的開發。AIXTRON G4具有特殊的沈積特性，可導致極均勻和可重復的沈積。均勻的層結構，加上可調節的工藝參數，使得生產具有極大的靈活性。這有助於為廣泛的光電、功能和結構特性開發高度優化的結構。總體而言,G4是一個功能強大、用戶友好的系統,用於統一、可重復和可重現的CVD沈積。它的準確性和靈活性，加上精確分析過程參數的能力，使得它成為任何希望獲得可重現結果的研究人員或工程師的寶貴工具。G4強大的設計和準確的性能使其躋身全球最搶手的CVD系統之列。