二手 AIXTRON G4 #9250875 待售

AIXTRON G4是一種高度先進的金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）設備。它是能夠進行多種材料沈積過程的高速反應堆，如III-V組半導體、氧化物和氮化物的單層和多層薄膜。AIXTRON G4系統帶有兩種不同的反應堆配置，RTP和Single Wafer配置。G4的RTP（Rapid Thermal Processing）反應堆配置為其用戶提供了高達200 °C/秒的極快熱循環時間。這使用戶能夠快速加工材料，大大提高沈積吞吐量。RTP還為用戶提供精確的原位溫度控制，允許更高效的均勻薄膜生長和減少設備校準時間。另一方面,Single Wafer配置提供了一個高度高級的過程控制環境,使用戶能夠將材料直接存放在晶圓上,從而無需額外的手動過程步驟。G4的另一大特點是高度自動化。實時過程監控單元、自動化過程控制、車載物料處理和自動晶圓返回系統等功能為用戶提供了高效、高質量的沈積過程。此外，該機配備了先進的容錯平臺，為用戶提供可靠、高性能的刀具操作，減少了停機時間。這些特性使得AIXTRON G4成為外延、光伏或LED制造等工藝的偉大反應堆。它快速的熱循環時間使它能夠在短時間內沈積多層材料，而其高度的自動化使得它成為一個連續運行過程的可靠工具。最後，AIXTRON G4反應堆的設計旨在為用戶在材料選擇上提供最大的靈活性，以及較高的整體工藝性能。