二手 AIXTRON G5 #9238984 待售

AIXTRON G5是為量產和研究而設計的最先進的沈積設備。該系統配備遠程等離子體增強化學氣相沈積技術，用於生產耐火金屬矽化物、半導體等薄膜材料。AIXTRON G5是一種多級聚類工具，設計用於同時進行共濺射和ALE沈積過程。該單元具有高精度晶圓編碼單元、四個濺射源、兩個磁控管源、一個激光源、在腔室配置和刀具控制軟件方面的高靈活性。此外，該機還包括一個用於晶圓移動和操作的定位模塊，以及一個用於直接處理的內襯源和一個用於二次處理的DC/AC源。G5反應堆的設計提供了卓越的均勻性和薄膜質量，同時允許高達6英寸和8英寸的晶片進行加工。G5具有獨特的濺射面板設計，提供精確的蝕刻控制和由此產生的光滑晶片表面。獨特的設計還支持高線寬精度和配準的緊密公差塗層。AIXTRON G5工具通過不同的編程解決方案提供了靈活性,使用戶無需單獨的計算機即可對資產進行編程。該模型還具有一個過程溫度管理器，確保恒定溫度和材料沈積速率，以便在整個過程中優化蝕刻和沈積。此外,AIXTRON G5專為高通量生產而設計,在整個生產過程中提供高可靠性和可重復性。G5反應堆是所有蝕刻和沈積過程的一站式解決方案，具有出色的工藝控制能力。G5專為高通量和高品質薄膜的開發而設計，是先進研究和生產需求的理想選擇。