二手 AIXTRON Gen 3.5 #9067299 待售
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ID: 9067299
Polymer Vapour Phase Deposition (PVPD) system
Dual stage load lock with independent vacuum system
Deposition chamber: Typically 0.1 mbar - 1000 mbar
Passive mask alignment accuracy: +/- 5 mm
Electro chuck for Gen 3.5 (0°-40° C)
Parylene-c pyrolyser
Gen 3.5 Shower head
Gap switch
Independent vacuum system with (2) pumps
(4) Mask capability
E-rack module
Water panel
Control display panel
Gas mixing unit
Pneumatic system
E-Racks
Control system
Safety system.
AIXTRON Gen 3.5是一個最先進的超高壓外延生長反應堆。反應堆設計用於先進的增長應用，如生產新型光電和納米電子材料，特別是用於光電器件和納米電子的III-V類材料。AIXTRON Gen 3.5配備了創新的「易於使用」用戶界面,可確保最多同時運行和維護三個腔室。AIXTRON Gen 3.5由獨特的多陽極UHV/DP反應堆源供電。這種強大的光源使材料沈積具有更大的靈活性和更精確的控制，從而能夠生產高質量的III-V類光電和納米電子材料。它還提供了執行高級外延層工程的能力，允許更廣泛的應用。反應堆的設計對其前身Gen 2.5進行了多項改進。這包括更快的沈積速率,高達0.5 µm/min,由於較高的壓力特性而改善了均勻性,汙染最小化以提高晶圓均勻性和產率,同時將工藝溫度降低到500C。AIXTRON Gen 3.5具有集成的過程監控功能,可為用戶提供詳細、準確沈積III-V類材料的最佳參數。該系統還可以內部調節條件，以確保理想的過程一致性和效率。它具有最高的質量和最高的性能,非常適合外延層工程,用於新型光電和納米電子應用,如發光二極管（LED）。AIXTRON Gen 3.5是市場上最先進的外延生長反應堆之一。其眾多的創新特性，如快速沈積速率、先進的工藝監測和汙染物控制，使其成為生產先進光電和納米電子材料的理想選擇。其卓越的功能以及易於使用的用戶界面將為客戶提供無與倫比的外延增長平臺。
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