二手 AIXTRON LYNX-II #9092877 待售

AIXTRON LYNX-II是一種先進的等離子體增強型化學氣相沈積（PECVD）反應器，用於薄膜沈積。它采用閉合耦合淋浴頭（CCS）架構建造，能夠支撐多種基板，包括矽、藍寶石、玻璃等。該反應器設計用於沈積氧化物和聚合物薄膜，具有高度的熱均勻性。其配置允許進行一系列過程，包括金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）、原子層沈積（ALD）、熱解和低壓化學氣相沈積（LPCVD）。LYNX-II反應器具有等離子體氣體高流量的高真空室，以實現高速率的薄膜沈積。腔室配有光學窗口，便於對過程進行監控。反應堆還包含一個兩區室，允許在每一側設置獨立的溫度。這種雙區設計有助於減少縮合和反應引起的等離子體清除（RIPP）問題。使用機器人基板傳輸設備將基板裝入腔室，該設備最多可容納六個基板。該系統利用雙軸級對基板位置進行精確控制。AIXTRON LYNX-II反應堆可以配備擴散泵來創建更高壓力的等離子體過程。擴散泵可耦合到AFC®控制單元,該單元可用於控制過程參數。LYNX-II反應堆的控制機為'AFC Control II'。此工具包含觸摸屏界面,允許用戶控制各種參數,例如腔室壓力、溫度和流量控制。當達到或超過進程參數時,資產還能夠生成警報。AFC Control II還具有「日誌/記錄」功能,該功能存儲所有流程配方和信息。AIXTRON LYNX-II反應堆具有高純度的「玻璃對金屬」密封結構，提供了高度的材料兼容性。這樣可以沈積不同材料的材料，包括金屬、氧化物、氮化物和聚合物。使用不銹鋼硬體有助於減少汙染。總體而言，LYNX-II是一種用於薄膜沈積的強大而可靠的PECVD反應器。它的CCS體系結構允許在基板上同時沈積一系列材料，其先進的控制模型允許對工藝參數進行精確的控制。該反應器非常適合各種應用，是工業薄膜加工中必不可少的工具。