二手 AIXTRON LYNX-III #9083531 待售

AIXTRON LYNX-III是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）設備，用於半導體薄膜沈積在晶圓和其他基板上。它是一個三室生產級系統，用於在高溫下生長以及通過帶電氣體添加進行原位摻雜。反應堆具有旋轉晶片級均勻性，其六角形設計允許在密閉區域內進行高溫。其氮氣凈化裝置具有良好的沈積均勻性,在目標溫度範圍（750-850 °C）內具有更強的GaN沈積質量。真空泵，一個RCF，以及一個板載等離子體發生器提供了完美的膜質量有效的真空水平。該工藝氣體進料機控制濃度組成，並允許同時混合過程。先進的氣體混合工具對載氣流、試劑氣流、反應溫度等幾個變量提供了無與倫比的控制和重現性。集成氣體分析儀還可以監測沈積過程的不同工藝參數。反應堆還具有自動晶圓處理資產，包括基板冷卻和加熱。LYNX-III具有緊湊的設計，便於安裝和維護。它利用基於蒸餾的真空技術，包括幾個安全特點，以確保人員免受觸電、氣體泄漏和意外燃燒。低斜坡時間<60秒可確保晶片的均勻性,並且模型能夠支持任何空腔設計。可以安裝多傅立葉變換（FTIR）和四極質譜儀，以達到高質量的效果。AIXTRON LYNX-III是一種先進可靠的設備，能夠實現高度可重現和可控的沈積過程。它是研究和開發實驗室以及制造設施的理想選擇，並提供可靠和具有成本效益的薄膜沈積能力。