二手 AIXTRON LYNX-iXP #9098086 待售

AIXTRON LYNX-iXP
製造商
AIXTRON
模型
LYNX-iXP
ID: 9098086
晶圓大小: 12"
CVD system, 12" Process: metal films SiH4-based WSi DCS-based WSi Tungsten (W) Ultra-thin WSi film 15L MKS RPC Clean (1) Brooks Transfer Module (3) Process Module AC Rack Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP是一個獨特的反應器,專門設計用於沈積半導體材料,如矽、砷化氙和磷化銨等。反應堆具有獨一無二的結構,單晶圓可調工藝管,允許不同層在單個沈積操作中沈積。另外,腔室可以在不同的基板上支撐不同的基板尺寸,包括矽基板、砷化氙和磷化銨,以及非導電復合基板。該反應堆旨在為工業揮發性和吸濕性沈積過程提供最高水平的過程穩定性和最可靠的過程控制。通過使用先進的機器人技術和微機設備實現流程自動化和通信;兩級供暖系統;模塊化控制單元;快速反應掃描器;以及先進的真空機。使用LYNX-iXP可以達到0.5 Torr的腔室壓力,這樣可以實現較高的沈積速率,同時保持整個基板的均勻性。該室還配備了一個集成的熱成像工具,提供關於被沈積層質量的實時信息。這種實時反饋能夠更快地優化過程,並能夠更準確地預測沈積結果。AIXTRON LYNX-iXP可以容納高達6英寸x 4英寸的基板,並且可以與多種晶圓載體一起使用。反應堆還有一個內置的用於層厚度均勻性的高級均勻性(SUU)模塊,與一系列高溫過程兼容。LYNX-iXP具有長期的可靠性,在長期運行和晶圓吞吐量方面都有出色的記錄。集成模塊化控制器(IMC)允許用戶在晶圓沈積過程中控制工藝參數,以及訪問資產運行歷史和性能的能力。操作方便,而且非常可靠。總體而言,AIXTRON LYNX-iXP為各種應用和基質提供了精確、可靠的沈積工藝。反應堆用途極為廣泛,可用於各種材料的沈積,以及對沈積過程的精確控制和監測。其長期的可靠性和運行歷史使得反應堆成為各種半導體材料沈積應用的絕佳選擇。
還沒有評論