二手 AIXTRON LYNX-iXP #9098087 待售
網址複製成功!
ID: 9098087
晶圓大小: 12"
CVD system, 12"
Process: metal films
SiH4-based WSi
DCS-based WSi
Tungsten (W)
Ultra-thin WSi film
15L MKS RPC Clean
(1) Brooks Transfer Module
(3) Process Module
AC Rack
Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP是一種最先進的低壓化學氣相沈積(LPCVD)反應器,旨在滿足半導體和MEMS工業的最高要求。這項創新技術提供了精確、可重復的薄膜塗層或基板,即使是最具挑戰性的工藝。LYNX-iXP能夠處理大批量和單個基板過程,而不會影響性能或可靠性。AIXTRON LYNX-iXP反應堆在均勻性、穩定性和可靠性方面提供了無與倫比的性能,所有這些都不會影響成本。LYNX-iXP是一個靈活的PVD系統,可以用於許多應用,從尖端的研究到成熟的生產。它有一個陶瓷塗層石英管,提供溫和和均勻的底物溫度,同時使用的是一種以氙氮為基礎的工藝氣體。AIXTRON LYNX-iXP還具有可調沈積區長的微調膜組成。反應堆的控制系統提供了一系列配方選項,包括易於實施和周期優化配方。這使得從一個進程快速切換到另一個進程變得容易。LYNX-iXP還配有一個集成的源腔,有助於在較長的過程周期內減少金屬汙染。AIXTRON LYNX-iXP除了堅固的設計和可選的源室外,還為開發人員提供了一個平臺,為自己的開發定制流程和材料。反應堆可以配備遠程等離子體、底物清洗、工藝後冷卻等特性。這使得開發者可以嘗試不同的材料、工藝配方和技術,從而可能導致微電子和納米電子制造的進一步發展。LYNX-iXP是用於微電子和納米電子器件生產的高效、可靠且具有成本效益的LPCVD反應器。這種創新的反應堆提供了其他系統所沒有的能力,包括工藝開發、微調配方以及高質量、均勻的薄膜。AIXTRON LYNX-iXP具有廣泛的工藝選項和可定制的功能,是要求苛刻的應用程序的理想選擇。
還沒有評論