二手 AIXTRON LYNX3 #9159015 待售

AIXTRON LYNX3是一種等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，用於薄膜的高級沈積。LYNX3將線性多束工程、光學診斷、專利圓柱感應射頻加熱等先進技術與可靠的設備設計相結合，成為薄膜和納米結構沈積的理想工具。配備了幾個硬件和軟件組件，AIXTRON LYNX3系統提供了生產高質量薄膜和納米結構的全面功能。沈積單元利用三個線性多束工程源、光學檢測機、感應射頻加熱和兩個噴射器輔助沈積過程。線性多束工程源的設計允許在反應堆腔內電離水平的精確控制，同時允許優質薄膜和納米結構的生長。此外，光學檢測工具具有很高的時間分辨率，在沈積過程中可以檢測到各種發射信號。LYNX3還具有專門為薄膜的生產和沈積而設計的感應射頻加熱資產。該型號采用雙面圓柱形感應加熱元件，具有低電感、高效、耐用的設計，用於一致和高度控制的射頻功率輸送。AIXTRON LYNX3上的射頻加熱元件是可調的，可以與線性多梁工程源獨立耦合，以獲得最大的工藝靈活性。LYNX3還設有兩個噴射口，以便於納米結構的沈積和最佳利用現有材料。這允許更高的摻雜水平和更高的增長率與更大的過程靈活性。此外,與所有AIXTRON系統一樣,AIXTRON LYNX3與各種不同的沈積材料完全兼容,可用於廣泛的應用。總體而言，LYNX3是生產和沈積薄膜和納米結構的通用可靠設備。先進的線性多光束工程、光學診斷和感應射頻加熱功能使AIXTRON LYNX3經驗豐富和新手用戶的理想工具。此外,兩個噴射口和可調節射頻加熱元件進一步提高了其柔韌性,使用戶能夠生產出質量和效率更高的薄膜和納米結構。