二手 AIXTRON LYNX3 #9206615 待售

AIXTRON LYNX3是一種先進的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於在太陽能電池、微LED、柔性顯示器和半導體存儲器等微電子和光電應用中沈積薄膜。它提供了出色的均勻性和優越的側壁覆蓋，以及優越的步驟覆蓋復雜的結構。LYNX3利用冷墻反應器技術，大大減少了沈積室的溫度變化。此技術消除了不希望的溫度波動,並確保了一致的結果。AIXTRON LYNX3反應堆裝有三頸垂直噴頭，設計用於在大面積上沈積厚度均勻的薄膜。它有8英寸到24英寸的各種腔室尺寸,既提供大容量的生產能力,也提供中等容量的研發能力。反應堆還配備了先進的安全特性和多重過程控制能力，非常適合商業和研究應用。LYNX3配備了多氣體註入系統（MGIS），用戶可以準確控制反應物流量，以實現最佳的過程控制。此外，反應堆還配備了會聚發散噴嘴（CDN's），使薄膜在平面晶片上以及在諸如MEMS和高級介電層等物體的側壁上均勻。該系統還支持前壁註入（FWI），這是一個旨在在金屬化金屬化層上實現銅沈積的功能。AIXTRON LYNX3反應堆具有先進的功率和溫度控制系統，允許用戶準確、精確地控制過程參數，以及實時監控沈積過程。光學樣品檢視可以讓使用者評估沈積膜的質量。反應堆還支持流程監控軟件包，使用戶能夠快速識別和排除流程問題。總之，LYNX3是一種先進的CVD反應堆，旨在滿足微電子和光電工業的要求和應用。它具有多氣體註入系統（MGIS）和前壁註入（FWI）等先進功能，使薄膜在平板晶片和物體側壁上均勻。反應堆還具有先進的過程控制和監測能力，使其成為生產和研發目的的理想選擇。