二手 AIXTRON R6 #9215060 待售

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製造商
AIXTRON
模型
R6
ID: 9215060
優質的: 2014
MOCVD System 31"x 4" Gas lines: (2) NH3 SiH4 SMC: (3) SMC Baths (Small) (2) SMC Baths (Middle) SMC Bath (Lager) (2) EPISON4 Installed (TMIn-1 &TMIn-2) MO Lines: (2)TMG DARK (3) Cp2Mg (2) Indium TEG MO Materials: TMG DARK Mg In TEG SiH4 NH3 Measure reflectance & temperature: Epi 3TT, EpiCurve_TT, Argus Process pump: AD600H WKL230 Chiller included HORIBA STEC Gas: GaN 2014 vintage.
AIXTRON R6是由德國領先的沈積系統制造商AIXTRON開發的單區-弧式反應堆。該反應器設計用於有機薄膜的沈積和低溫CVD的應用。其特點是具有500 mm x 400mm工作容積的沈積室、圓形內壁設計、單區弧形等離子體源和高達200W功率的雙區應用。其高溫範圍為20-480 °C,烘烤溫度高達600°C。該反應器為高性能電介質和有機半導體薄膜的沈積提供了多種優點。大的工作體積能夠容納多達兩個不同形狀和大小的基板。它采用雙區域設置,以確保在沈積過程中進行有效的熱管理。這樣可以防止反應器室內的熱量積聚,並確保沈積的高度均勻性。再者,位於樣品上方的單區電弧等離子體源產生了密度高的均勻等離子體場。這有助於在相對較高的沈積速率下實現較大的薄膜厚度。此外,R6易於操作和維護。它配備了先進的診斷和視覺指示器,使用戶能夠方便地監測血漿和沈積過程。而且反應堆具有模塊化設計,便於更換和維護沈積系統。還配備了過電壓保護、電弧檢測等安全功能。由於其先進的特性,AIXTRON R6非常適合OLED、有機薄膜晶體管、傳感器、顯示器和其他有機薄膜器件的沈積。已成功用於生產商用器件,也被用於研究有機膜腐蝕性質和結構的項目。
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