二手 AIXTRON TS 19x2" #9386610 待售

AIXTRON TS 19x2是一種高溫化學氣相沈積（CVD）設備，用於生產不同類型的材料，例如半導體工業中的薄膜或塗層。該系統配有熱壁管狀反應器，具有冷卻基板支架和四個溫度設置可調的加熱氣體噴射器。AIXTRON TS 19x2是一個可靠和高效的單元，可以精確控制生產材料的環境。它提供了多達18個可獨立調節的溫度區，使得在反應堆內產生均勻的溫度分布並獲得更精確的結果成為可能。AIXTRON TS 19x2還包括一個全封閉式的工藝室，可加壓至10-3 torr。這有助於限制在材料沈積過程中逸出的加工氣體的數量。AIXTRON TS 19x2具有可調節的轉速，能夠產生高品質、均勻和均勻的薄膜層。它還具有較高的吞吐量,同時使用較少的能源,這使得它成為傳統CVD系統的一種成本較低的替代產品。此外，這臺機器可以定制，以適應不同尺寸的基板，使其適合各種應用。AIXTRON TS 19x2是一種通用工具，可用於多種工藝，如金剛石狀碳沈積、多層塗層、薄膜沈積等。采用均勻的前體氣體分布，對工藝條件和均勻沈積進行精確控制，適用於各種工業應用。總體而言,AIXTRON TS 19x2是一種可靠的CVD資產,適用於各種流程。它提供了高吞吐量、可調溫度設置和壓緊處理室,使其成為一系列應用程序的高效模型。