二手 AIXTRON TS CCSH19*2" #9167079 待售

AIXTRON TS CCSH19*2是一種用於生產優質薄膜沈積物和外延層的高溫化學氣相沈積（CVD）反應器。它主要用於復合半導體材料的生長，包括一個創新的特點：垂直可調基板幾何形狀。這允許了比其他CVD反應堆更大範圍的增長幾何形狀，也可以容納直徑達兩英寸的基材尺寸。AIXTRON TS CCSH19*2的主室由不銹鋼部件組成，旨在優化工藝產量。它結合了一個雙壁電子束焊接過渡室和一個用於源材料的鉬船，確保不會在主室外釋放塗層過程中的粒子。主室還設計用於防止來自目標材料的反射。該腔室還具有對基板的溫度控制，有效範圍為+2000C，以及用於提高工藝一致性的高溫計反饋。AIXTRON TS CCSH19*2反應堆還具有獲得專利的源快門保護系統，即使在反應性沈積事件中也能保持源材料與基板的保護性接觸。這有助於確保整個沈積過程的一致性，並保護原料不會過早氧化或失活。AIXTRON TS CCSH19*2反應堆設有進出口口，包括氣線、真空線、質量流量控制器。這可以精確控制源氣體和可能的摻雜劑，質量流控制器提供對沈積速率的完全控制。AIXTRON TS CCSH19*2還包括一個可編程的過程控制器，它允許精確控制沈積溫度、壓力和流量。這些特點確保了對沈積過程的精確控制和一致和可重復的結果。此外，AIXTRON TS CCSH19*2反應堆包括了一系列內置的安全特性，其中包括壓力傳感器、溫度傳感器和工藝端停止計時器。這樣可以確保操作保持安全和一致,即使在最長的過程中也是如此。系統中包含所有控件,以便於監控和優化過程。AIXTRON TS CCSH19*2反應器是一種可靠、易用、高效的薄膜沈積CVD反應器。它提供了廣泛的基板尺寸和幾何形狀，並允許沈積參數的精確控制。它還具有多種安全功能，以確保安全和一致的操作。所有這些特征使其成為生產高質量薄膜層和外延結構的理想選擇。