二手 AIXTRON TS CCSH30*2" #9167080 待售

AIXTRON TS CCSH30*2是一種水平單晶圓半導體反應器，帶有陶瓷塗層石墨敏感器。它設計用於一次處理多達八個晶片，使復合半導體基光電薄膜器件和其他需要復雜晶格結構和摻雜的光電器件的高效生產成為可能。該反應堆結合了先進的AIXTRON射頻電感耦合等離子體（ICP）源和先進的設計特點，為沈積過程提供了卓越的吞吐量和精確控制。AIXTRON TS CCSH30*2反應堆采用CVD技術，能夠沈積層和產生厚度達10納米的結構。沈積采用三過程，直接電流感應耦合等離子體（DCIP）過程，使反應堆能夠將所需的產生CVD的氣體和氧氣精確輸送到反應室中。ICP源具有高功率發電機，能夠向反應室提供高達550 W的功率。沈積過程使用一個敏感器和一次最多八個晶圓的組合。感光器被固定在一個水平平臺上，該平臺有一個可調的高度和寬度。這樣可以精確控制晶片之間的高度和間距，有助於確保沈積過程中所有晶片的薄膜厚度均勻。反應室設計還促進了均勻處理，利用高效氣體反饋控制，確保沈積過程極其精確和可重復。該室采用內置濕度和溫度控制以及真空隔離系統。這有助於確保晶片整個表面的均勻沈積。AIXTRON TS CCSH30*2反應堆設計用於處理多種底物，包括Si、GaN和GaAs，可以配置為在單或多過程腔室環境中運行。它易於使用的界面提供了一大堆可以調整的設置，以確保最佳的底物和氧化物沈積。AIXTRON TS CCSH30*2反應堆是生產復雜光電薄膜器件的完美工具。它具有創新的設計，允許高吞吐量，沈積過程的精確控制，和均勻的薄膜厚度。它是尋求一種工具的工藝工程師的理想選擇,該工具可以高效高效地創建質量最高的薄膜設備。