二手 AIXTRON TS OCSH 30X2 #9181587 待售

AIXTRON TSCOH 30X2是一種多功能的化學氣相沈積設備，能夠沈積各種功能材料，包括有機化合物、氮化物、氧化物和合金。它具有很高的工藝靈活性和極好的均勻性和控制性。AIXTRON TSCOH 30X2配有兩個截然不同的工藝室，每個室都配有一組專用組件。第一個腔室提供減壓外延（RPE）和化學氣相沈積（CVD）功能,腔室壓力為0.005至20 torr。這個腔室的特點是上部加熱級帶有一個敏感器加熱器，而下部加熱級則由介質加熱器和活塞組成。上下級的運動可以獨立控制到200毫米/秒。AIXTRON TSCOH 30X2的第二室是為固體源MBE工藝而設計的高溫處理室。這個腔室有一個上部加熱級，有一個ha帶加熱器，和一個熱偶極組件作為下部分級組件。該腔室可容納0.001至50托的工藝壓力。AIXTRON TSCOH 30X2包括壓力控制、溫度控制和質量流量控制器,以最大限度地提高層均勻性,並對過程進行精確控制。該系統能夠提供快速的溫度循環、一致的性能和強大的計算機輔助過程分析。此外，該裝置還可以對材料沈積過程進行遠程控制，並對工藝室進行多區域控制，以實現精確的溫度控制。安全和質量保證是AIXTRON TSCOH 30X2的重要特點,因為該機具有完全集成的安全互鎖工具以及集成的氣體泄漏檢測資產（N2O監測）。模型的全自動操作有助於確保高流程正常運行時間和一致的流程產量。綜上所述，AIXTRON TSCOH 30X2是一種多合一聚合物和半導體沈積溶液，設計為最大的靈活性和精確的控制。它能夠沈積廣泛的功能材料，並允許先進的參數控制，以獲得準確可靠的結果。