二手 AIXTRON VP 2400HW #9234069 待售
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ID: 9234069
晶圓大小: 4"
優質的: 2012
EPI SiC Reactor, 4"
Type: Modular CVD system
Reactor: Disk-shaped horizontal laminar flow stainless steel reactor
Vacuum system: EBARA ESA70W-D Dry process pump
Gas handling:
(316) Stainless steel tubings
VCR Connectors
Electronic mass flow and pressure controllers
Susceptor / Ceiling:
High purity graphite with special coating
Rotating substrate holder (Gas foil rotation)
Heater: RF Induction heater 2 x 80 kW, 20-50 kHz
Maximum reactor temperature: 1600°C
Pressure range for process: 100-1000 mbar for overall flows < 100 slm
MO Temperature control:
Recirculating controlled temperature baths
Accuracy: 0.05°C
Range: -10°C to +60°C
Mass flow control: Electronic mass flow controllers (HiTec)
Pressure control: MKS Baratrons and valves
Back pressure controllers: HiTec pressure controllers
Conditions (Typical):
Total carrier gas flow at process 80 slm and process gases
Auxiliary lines: 15 slm
Power supply:
Electronic: 22 kVA (Maximum)
Heater: 88 kVA (Maximum)
2012 vintage.
AIXTRON VP 2400HW是一種用於半導體研發和生產的高帶真空氣相沈積（PVD）反應器。它配備了獨特的六邊形腔室設計，最大化了可用的總容量，並允許快速交換基板和晶片，而無需額外的載荷/卸載步驟。全鎢加熱罩保護腔壁，確保均勻加熱以均勻沈積薄膜。AIXTRON VP 2400 HW旨在遵循業界領先的最佳做法,以確保穩定可靠的真空環境。其溫度控制設備集成到一個單室系統中，允許在許多晶片上均勻沈積，以及在各個晶片上優化沈積均勻性。VP 2400HW具有獲得專利的旋轉加熱器塊和多個工藝室，包括主工藝室、主上遊室和主下遊室。主工藝室設有中心鎢管加熱器、用於工藝氣體電離的環形電子回旋共振（ECR）射頻源和用於放置目標材料的陰極電源。可以使用多個石英crucibles和隔離的閘閥將原料分配到工藝室內。此外，VP 2400 HW配備了一個額外的射頻源，可以用於電子轟擊樣品。整個單元配備了先進的工藝軟件，實現了工藝溫度等參數的自動化控制。AIXTRON VP 2400HW過程軟件支持濺射、LPCVD、MOCVD、ALD、ECR氧化監測等過程。它提供流程端點監視、實時分析和數據日誌記錄。此外，AIXTRON VP 2400 HW具有利用多種基材和材料的能力，具有多種晶圓尺寸和形狀，直徑在2到8英寸之間。VP 2400HW還具有許多方便操作的功能。納入了全面和綜合的安全系統，包括自動關閉以及應急警報和控制。該反應堆設計為無維護，便於維修和保養。該機還設計用於低功耗和快速操作，以高效利用資源和時間。總體而言，VP 2400 HW是一種高性能真空氣相沈積反應器，設計用於先進的半導體研發和生產。它配備了最新技術，以確保準確和高效的流程和操作。完全符合安全環保法規，用電量低。因此,AIXTRON VP 2400HW對於那些尋求高質量和可靠PVD工具的用戶來說是一個極好的選擇。
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