二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #293663303 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286反應堆是一種高真空化學氣相沈積（CVD）反應堆。這類反應器在半導體工業中用於生產微電子器件的晶體，如晶體管、集成電路以及電子系統的其他組件。反應器的工作原理是在產品表面沈積所需元素的薄膜。該工藝通常用於制造氧化物、氮化物或其他材料塗覆產品的塗層。AMAT 0010-01286反應器設計用於高溫，用於在高達1200 °C的溫度下沈積薄膜金屬層。該反應器具有濕化學反應室和微波等離子體源，可有效沈積薄膜。等離子體源可確保產品的高產率和可重復沈積剖面。腔室通過真空設備進行壓力控制，過程監測通過溫度控制系統進行。反應器包含一個反應室的過程氣體入口，以及一個過程排氣單元。氣體入口用於引入前體氣體，例如矽烷氣體用於矽的塗層，並引入過程所需的載體，如氧氣和氫氣。過程排氣機從反應室中去除反應產物，如未反應分子或水，防止反應室過熱。APPLIED MATERIALS 0010-01286反應器還具有一個聯鎖特性，可以在任何反應條件變得異常時停止反應過程。這確保了整個過程的最佳熱穩定性。此外，該反應器由耐用的不銹鋼制成，設計方便操作與數字控制面板。0010-01286反應堆是高新技術行業薄膜沈積的理想選擇。該反應器為高產率薄膜沈積提供了可靠、可重復的工藝。該反應器由優質材料構成，為優化反應過程提供了溫度和氣體條件的精確控制。聯鎖安全工具可確保用戶和設備的最佳性能和安全性。