二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9005021 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416反應堆是一種遠程等離子體源和反應堆的組合，專門設計用於半導體工業中的蝕刻、沈積和清洗過程。反應堆裝有變頻射頻發生器，產生適合蝕刻材料如SiO2和Si的高頻、低功率波形，然後將發電機產生的等離子體送入反應堆腔室，用於激活前體分子，然後沈積在晶圓上。反應堆室還允許精確控制過程的溫度和壓力。反應堆室的設計目的是提供具有低汙染水平的均勻、可重復的過程。使用等離子體淋浴頭將等離子體均勻分布在晶圓表面，同時使用水平晶圓運動級實現均勻蝕刻輪廓和速度。惰性氣體通過頂部和底部氣體註入引入腔室，以控制反應器腔室內氣體的壓力和溫度。腔室在-20°C至180°C的工作溫度範圍內工作，壓力高達1 Torr。反應堆可以配置為單個晶片或具有最多六個腔室的批處理系統。六室系統配有過程控制軟件和全過程三維圖。該軟件使工程師能夠在整個過程中準確控制所需的參數，如壓力、流速和等離子體溫度。該系統提供了一系列操作壓力選項，包括超低壓、高真空和大氣壓，使所應用的過程能夠與客戶流程的要求相匹配。AMAT 0010-09416反應堆是一種功能強大、可靠的工具，用於廣泛的材料處理任務。該反應堆具有精確、可重復的工藝控制、靈活的操作參數、低汙染水平，是半導體工業生產優質器件結構的理想選擇。