二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9026398 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416
ID: 9026398
RF Match etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416反應堆是為半導體制造工藝設計的先進設備。該反應堆提供必要的功能和參數,以創建高質量、無缺陷的晶片和器件。反應堆包含許多先進的元件,如感應耦合等離子體(ICP)源和快速熱退火(RTA)系統。反應器內包含的ICP源允許進行高級工藝,如蝕刻、多晶矽沈積和摻雜植入。這種特殊的電能來源能夠對各種基材進行表面處理。這些表面處理在半導體制造過程中是無價的。ICP源還能夠生產用於蝕刻目的的反應性和惰性物質。這允許微調設備制造過程。此外,ICP電源及其電源受到AI支持的冷卻系統的良好保護,確保整個反應堆的溫度一致。RTA設備是AMAT 0010-09416反應堆的顯著特點。該系統提供高吞吐量和低熱預算,這意味著隨著芯片的收縮和過程復雜性的增加,RTA單元仍然可以處理各種各樣的應用程序和功能。RTA機還提供包括休養加熱在內的高級功能,使反應堆能夠更快地加熱晶圓,從而使過程在較短的時間內完成。除了ICP源和RTA系統外,APPLICED MATERIALS 0010-09416反應堆還包含了多個其他特性。其中包括加熱和冷卻工具、真空密封工藝室、高精度氣體輸送資產以及其他先進組件。所有這些特性結合起來,使反應堆能夠處理外延生長、GaAs沈積等,同時實現低缺陷率。這允許非常精確的結構,適合各種不同的應用。最後,反應堆由直觀的用戶友好軟件界面控制,確保了高效的過程控制和自動化。總體而言,來自AMAT的0010-09416反應堆是用於半導體制造過程的先進設備。該反應堆包含一些先進的組件,如比較方案源和區域貿易協定系統,這些組件允許為各種不同的應用處理極其精確的結構。反應堆由直觀的用戶友好軟件界面控制,確保高效的過程控制和自動化。它還通過啟用AI的冷卻系統得到良好的保護,確保整個反應堆的溫度一致。
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