二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416W #293644644 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416W是一種用於材料合成和沈積的反應堆，用於研究和工業應用。該反應器是一個高真空、註塑石英體室，設計用於在低壓下沈積半導體材料薄膜。它是一個水平的圓柱形腔室，具有兩級渦輪分子背襯泵和兩個進氣口，位於側面，用於輸送前體材料。腔室內的壓力在操作時維持在5 x 10-5和2 x 10-5 Torr之間。反應堆裝有獨特的快門設備，允許將晶片簡單地裝入腔室，並在低壓下進行處理。快門還設有專門用於監測過程的嵌入式紅外和紫外線傳感線路。加熱由兩個獨立控制的電阻元件提供，提供高達1000 °C的溫度，並與一個有5條氣線的氣體混合器模塊耦合。反應堆後面還有一個電子閘閥。沈積是由一個獨特的石英慣性淋浴頭推進的，其總壓力為1毫托，將材料垂直輸送到基板上，以提高均勻性和階梯覆蓋率。石英淋浴頭還可以安裝在可調支架上，以增加靈活性。在反應堆中可以容納尺寸不超過200毫米的單個或多個基板。該控制系統旨在實現濺射沈積、化學氣相沈積、原子層沈積等薄膜沈積過程的自動化。該單元具有計算機化的操作員接口終端、配方編程以及能夠精確控制整個過程的微調閥，包括壓力、流量、溫度和其他變量。還可以執行數據日誌記錄,以監視、審閱和記錄過程。AMAT 0010-09416W反應堆裝有排氣機管理（ESM）氣體管理工具，包括一個完整的三級幹泵。ESM的設計旨在減少工藝相關的交叉汙染，提供出色的氣體控制，並減少從工藝室排出的氣體。應用材料0010-09416W反應堆能夠生產適用於廣泛應用的薄膜，包括半導體、光伏、光電和MEMS設備。反應器的靈活性和精確度使薄膜特性的重復性和重復性成為微電子應用的關鍵。寬廣的溫度範圍、可調的淋浴頭、綜合的控制資產，使用戶能夠微調和優化自己的流程，從而帶來更高的吞吐量和提高的收益。