二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-21246 #9378778 待售

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ID: 9378778
TTN Chambers heater.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-21246 Reactor是一種精密的設備,設計用於薄膜沈積在基板上,用於先進的研究和生產應用。反應堆可用於原子層沈積(ALD)、物理氣相沈積(PVD)、低壓化學氣相沈積(LPCVD)、超高真空(Ultra High Vacuum,UHV)等多種過程。反應器的外部由不銹鋼構成,並有一個隔離室,該室配有用於沈積過程的真空設備。Advanced Process Control (APC)系統用於控制所選過程所需的參數(如壓力、溫度和流率),並通過用戶友好的界面對操作進行實時監控。反應堆內部由一種機制組成,該機制允許精確輸送用於ALD或CVD的前體材料,並在PVD工藝中產生沈積弧。設計用於沈積的噴嘴有兩種配置:用於CVD工藝的多端口或用於ALD工藝的單端口。根據基板材料和尺寸的不同,可以使用旋轉或不旋轉的基板支架來確保均勻的膜沈積。AMAT 0010-21246反應堆裝有脈沖電子束源、質譜儀、加熱泵機、自動氣體緩沖機等一系列裝置。這些特性使用戶能夠控制操作條件,如基板的溫度以及過程中使用的氣體的壓力和流量。該反應器最終是一種高效、準確的薄膜沈積機械,並提供了極大的靈活性,因為用戶可以借助高級工藝控制工具快速調整參數和操作。機械的復雜部件非常適合生產具有高重復均勻性和對基板附著力的薄膜。
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