二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162 #180798 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162是一種高溫化學氣相沈積CVD反應器，用於沈積用於半導體器件制造的多種薄膜。專為非晶矽、多晶矽等品種膜等材料而設計。固態過程控制特性和先進的過程控制體系結構提供了卓越的計量控制和屈服性能。由於占用空間小,資源需求有限,因此此工具可用於空間有限的實驗室。AMAT 0010-36162利用電子回旋共振（ECR）技術，降低雜質、氣相生長速率和更高質量的薄膜，以沈積生產半導體所需的薄膜。ECR由可提供4-8 GHz、450 W工藝功率的線性射頻設備提供動力。該系統非常適合穩定的沈積控制和均勻性。CVD反應堆單元可高達1250°C運行，非常適合以高質量和均勻性沈積GaN或SiC等薄膜。該機還具有許多保護沈積膜不被破壞的安全特性，包括多區冷卻、基於氣體的安全工具、背面冷卻和內置診斷。APPLIED MATERIALS 0010-36162提供了一套獨特的功能，幫助實現更高的生產率、更均勻的薄膜、更可重復的薄膜以及改進的過程控制。腔室尺寸可以安裝2英寸晶圓機器人，以增加密度和吞吐量。提供的其他模具選項與CVD腔室兼容,旨在消除手動處理的需要。這些選項還通過提高均勻性來提高產量和吞吐量。0010-36162具有可控的溫度和壓力,對於過程和均勻性控制至關重要。可調電源使得在CVD反應堆中更容易控制沈積速率和保持一致的溫度。用於處理氣體的快速變更模塊為用戶增加了一層獨特的靈活性,使用戶可以輕松地從一個流程切換到另一個流程。總體而言,AMAT/APPLICED MATERIALS 0010-36162是一個功能強大、堅固、靈活的CVD反應堆,在過程控制和屈服性能方面為用戶提供了最好的性能。資產的高級特性和能力使其成為任何實驗室環境的理想補充。