二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162R #9075360 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162R是一種用於先進半導體制造的反應器。它是一個Versalinx蝕刻反應堆，是AMAT特有的幹式蒸氣蝕刻系統。該系統設計用於前端和後端IC和MEMS應用的鋁和矽蝕刻。這種Versalinx的特定型號配備了電氣偏置，可以容納一系列蝕刻化學，使其用途非常廣泛。AMAT 0010-36162R可以將20納米到1微米之間的特征蝕刻到鋁和矽中，具有出色的深度控制。該子系統具有可靠的子系統工藝控制能力，具有較高的材料去除率、精密蝕刻效果和優異的表面質量。它能夠進行單層或多層蝕刻，使設備功能尺寸小於20納米。蝕刻過程設置易於配置。Versalinx組件由伺服電機驅動，因此非常精確。壓力和溫度是可調的,偏置電壓和功率也是可調節的.此外,還可以調整最大功率並引導電場,從而幫助匹配來自不同樣品的蝕刻速率。由於能夠定制各種蝕刻化學裝置的設置,因此這是深矽蝕刻工藝以及臨界1倍和2倍晶圓蝕刻的理想選擇。Versalinx蝕刻反應器非常適合處理具有精確對稱模式的芯片。其高蝕刻速率和出色的深度控制也使其成為鎢蝕刻以及其他關鍵沈積後工藝的理想選擇。它還能夠處理一系列材料，如鋁和鈦等金屬。該系統采用載荷鎖對腔室進行均勻疏散，並具有用於樣品定位的邊珠導軌控制器。這些特性有助於提高整體吞吐量和出色地控制蝕刻工藝。總之，APPLIED MATERIALS 0010-36162R是一種頂級蝕刻反應器，非常適合各種蝕刻應用。它具有出色的材料去除和深度控制能力，並且對於不同的蝕刻化學有高度的定制。它可以將特征蝕刻到20納米以下的尺寸，從而實現深層矽蝕刻，以及用於沈積後工藝的鎢蝕刻。憑借其強大的設計、可靠的子系統工藝控制和卓越的吞吐量，是先進半導體制造的理想選擇。