二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36408 #9207766 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36408是一種PECVD反應器，又稱等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，是一種用於在基板上沈積薄膜的裝置。PECVD反應器由一個發生沈積過程的真空室、一個以電弧放電或射頻（射頻）發生器的形式啟動電離現象的能量來源和一個氣體管理設備組成，以提供準確和精確的反應性氣體輸送到該室。PECVD反應堆的真空室由不銹鋼制成，設計為保持高達10-5 Torr的高真空水平。它設有兩個視口和一個石英襯裏的蝕刻區段，便於操作時觀察。能量源提供腔室內兩個電極之間的電弧放電，主要用於維持輝光放電。或者，RF發生器可以用來產生等離子體，它是一種非平衡的，部分電離的氣體，由原子、分子和具有高溫的自由電子（>1000 °C）組成。氣體管理系統能夠對各種氣源的氣流和壓力進行精確控制，從而獲得不同的材料和薄膜參數。為了進行沈積，需要將基材插入沈積室中並放置在電極上。氣體管理單元的設置是為了根據應沈積的材料向腔室提供所需的反應性氣體流動。能量源被激活以觸發沈積過程，沈積過程由電極之間的一系列等離子體放電組成。安裝了特殊設計的屏蔽板，將等離子體流向基板。當達到預定的數量或時間時,沈積過程即完成。最終結果是在基板上塗覆了所需材料的薄膜。PECVD反應器在半導體工業中被廣泛用於制造微電子元件，因為它提供了極好的均勻性、保形覆蓋和光滑的表面。它還具有能夠沈積金屬、陶瓷、聚合物、電介質等多種材料的優點。此外，PECVD反應器還可用於用於光學應用的塗層、用於磨損和腐蝕保護的塗層以及用於太陽能電池的薄膜。最後，AMAT 0010-36408 PECVD反應器是一種在基板上沈積薄膜的有效裝置。它由一個真空室、一個能源和一個氣體管理機器組成，以便對氣體流動進行可靠和精確的控制。PECVD反應器被用於各種不同的應用行業，使其成為薄膜沈積不可或缺的工具。