二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-65541 #293660489 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-65541是為半導體器件制造而設計的多腔過程反應器。用於晶圓的蝕刻、濺射沈積和快速熱處理，適用於150 mm和200 mm晶圓。該單元由不銹鋼主機、獨立控制器、電源板、真空泵組件和水冷機組組成。電源板容納了射頻濺射室和高壓直流濺射室的電源，使腔室能夠在高功率水平運行。它還為將氣體從外部氣源引入加工室提供流量控制。控制設備操作用戶界面，允許用戶控制流程，監控流程參數，設置流程參數，維護流程。AMAT 0010-65541的腔室有多個組分，如兩個濺射源、一個氣源和一個冷卻劑系統。這兩個濺射源提供了不同類型的工藝來沈積半導體材料的薄膜，如氧化物和氮化物。濺射過程用於沈積或蝕刻材料。冷卻劑單元有助於在加工過程中保持穩定的晶圓溫度，而氣源為加工室的環境提供某些化學添加劑。該單元還包含一臺真空機，在加工前吸出腔室中存在的所有空氣，並在加工過程中保持腔室內部的壓力。這對於維持所得晶片的純度和控制工藝氣體與底物之間的反應非常重要。真空工具還連接到專用真空泵組件。真空泵組件設計用來抽出加工過程中產生的廢氣，從而提高腔室大氣的純度。應用材料0010-65541反應堆提供了精密高效晶圓制造的多種特點。其多重濺射源、氣源、冷卻劑資產提供了廣泛的加工能力。其可靠的真空模型維持了工藝氣氛，而其獨立的控制器則允許用戶對設備進行精確的控制和監控。它與150 mm和200 mm晶片的兼容性使得它適合廣泛的制造工藝。所有這些特性使該裝置成為設備制造的絕佳選擇，並成為一種可靠高效的半導體制造工具。