二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-81296 #293809265 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-81296是為半導體應用而設計的真空等離子體蝕刻反應器。反應堆由介電屏障射頻（RF）等離子體源供電，用於在半導體基板上蝕刻材料層。該單元采用渦輪分子泵實現薄膜蝕刻沈積的低壓高溫。低壓有利於基板中存在的介電層的高完整性。反應堆有一個帶有輸入窗口的圓柱形腔室，以允許底物通過腔室頂部加載。基板由放置在腔室兩端的電極加熱。射頻源在腔內產生等離子體，根據需要創建蝕刻環境。可調節射頻功率，達到所需蝕刻速率，提高蝕刻效率。反應堆裝有數字顯示屏，可以讓用戶監控室內的溫度、壓力和功率水平。該室還有一個氣體輸送系統，可以精確控制反應物氣體。這樣可以將最佳材料沈積到基材上。該裝置還包括一個氣體監測系統，可以檢測室內是否存在危險氣體。如果檢測到有害氣體,系統將自動關閉。可將等離子體反應器編程為在需要時自動運行。這樣可以提高蝕刻過程的準確性和可重復性。也可以使用編程來定制不同基材和材料組合的蝕刻配方。AMAT 0010-81296反應堆的設計是為了以最高的效率和精確度產生高質量的蝕刻結果。先進的特性使其成為半導體加工應用的理想選擇。