二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0100-20063 #293659251 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-20063是一種工業反應堆，設計用於處理半導體和薄膜沈積的多種過程。這種基於熱壁技術的高端沈積室，旨在以高沈積率在大基板上形成連續均勻的薄膜。該反應堆采用水平和垂直配置，具有多插座設計，用於各種磁感器設計。AMAT 0100-20063采用5晶片熱壁和熱剝離器設計，實現催化劑和金屬蒸發、低壓化學氣相沈積（LPCVD）、等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）、原子層沈積（ALD）等多種工藝。該反應器能夠處理各種應用，包括反應物加熱、晶體生長、薄膜沈積、濺射和蝕刻。該沈積室采用雙壁結構，外壁為316L不銹鋼，內壁為頂部氧化銨，底部為氧化鎂，具有較好的隔熱和機械支撐作用。此外,它還具有嵌入式溫度探針,可實現最佳溫度讀數和均勻沈積.該反應器采用螺旋阻抗加熱元件設計，為均勻全膜形成提供了明確的溫度曲線。該系統允許溫度精度和精度在+/-2°C以內。所有組件都是為卓越的使用壽命和可靠性而設計的；因此其長期穩定性為每小時+/-0.03 °C。APPLIED MATERIALS 0100-20063設計有壓差傳感器和循環壓力計。它還有一個氣體流量計，提供對系統內反應物氣體的精確控制。腔內的集成和優化的沈積組件使薄膜的形成和過程的再現性保持一致。該腔室配有內置離子源，用於薄膜平滑，可提高均勻性和薄膜表面完整性，同時減少腔室內的顆粒物汙染物。此外,可選的遙控接口允許復雜的溫度曲線編程和高效的生產增益。0100-20063是一種用途廣泛、可靠的反應堆，為各種沈積過程提供卓越的隔熱和機械穩定性。這種高端的沈積室能夠使薄膜連續且均勻，同時為可靠和可重復的工藝控制提供了卓越的溫度精度。