二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0190-23942 #293662553 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-23942是一種垂直、單晶片、大氣壓、批量、低壓化學氣相沈積（LPCVD）反應堆設備。非常適合加工矽、矽化物、氮化物、多晶矽、氧化物等外延器件膜。該系統處理速度快、效率高,沈積率高,均勻性好.它配有鐘形石英腔室，保證了沈積氣流的優越一致性和控制。反應堆還設有一個擴大的圓柱形噴頭，帶有四站氣體輸送歧管，有助於將反應堆氣體均勻地分配到晶圓的所有區域。AMAT 0190-23942配備了四種氣體輸入，允許同時輸送工藝氣體，從而實現快速準確的薄膜沈積。它能夠在400°C至1250°C的溫度和低至0.5 Torr的壓力下沈積。另外，原位加熱器偏置裝置通過調節電壓控制加熱器，確保溫度精度和沈積一致性。APPLIED MATERIALS 0190-23942利用一個帶兩個獨立腔室的自動化負載鎖單元，方便晶圓的運輸和處理。一種自動的汞陰極冷壁源為沈積提供反應性氣體。此外，該機還配備了質量流量控制器，可保持精確的氣體流量和對沈積過程的精確控制。0190-23942以其快速的重量加熱和冷卻循環時間，是高通量加工的理想選擇，在短時間內生產LT（低溫）結晶材料。此外,它還配備了安全和環境監控工具,用於監控氣流、氧氣水平、溫度和壓力,有助於確保操作的持續安全和可靠性。此資產旨在使用單一晶圓方法在兩個級別上處理多達8英寸的晶圓。該模型還具有先進的工藝計量能力，包括維護基板完整性的無損分析。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-23942是一種可靠高效的LPCVD反應堆設備，能夠生產高質量和均勻的外延器件薄膜。特別適合矽、矽化物、氮化物、多晶矽、氧化物等薄膜應用。