二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-38209 #293661400 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0242-38209是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，用於薄膜沈積在基板上。這類反應堆的工作原理是將揮發性源氣體（通常是有機金屬或有機矽化物）加熱到高溫，然後分解形成反應性物質，然後沈積在基質上。AMAT 0242-38209用於原位和異位前體交付。它還能夠同時輸送多達三種前體，從而可以更精確地控制反應速率。APPLIED MATERIALS 0242-38209是一種水平平行板設備，包含兩個垂直對齊、堆疊的石英室。頂部腔室包含兩個碳化矽加熱器和一個金屬網狀加熱元件，用於加熱腔室和基板。基板被放置在一個加熱的金屬接收器上，該接收器將基板保持在與石英壁固定的工作距離，並有助於在基板上均勻加熱。下室分為兩個部分，每個部分通過一個輔助板進行隔斷。上部包含一個沖洗噴射器，將前體氣體引入下室。下部用於控制泵降過程，將氣體從噴射器中轉移出來，並加熱控制反應環境。0242-38209反應堆的加熱系統是電加熱器和輻射加熱器的組合。感應板包含兩個相互絕緣並由感應加熱單元連接的元件。該加熱裝置用於在基板上提供均勻高效的加熱，確保膜均勻沈積。機器中還存在一系列可調節的噴嘴，用於控制基板上的沈積物。AMAT/APPLICED MATERIALS 0242-38209反應堆還包含上部石英室的一系列窗口，用於監測沈積過程。這些窗戶由藍寶石和石英制成，並具有層狀、碳化物塗層的介電塗層，允許光學進入該工藝，同時仍然提供免受汙染的保護。將先進的拉曼光譜儀集成到AMAT 0242-38209工具中，以精確測量薄膜的成分。此外,APPLIED MATERIALS 0242-38209包含可用於評估基板表面形態和幾何形狀的成像資產。這種成像模型允許精確控制沈積過程，進而導致高質量的薄膜沈積。總體而言，0242-38209 CVD反應堆是一種高度先進的薄膜沈積設備。它結合了加熱元件、專用噴射器和窗戶，可以精確控制沈積過程。其拉曼光譜儀和成像系統也使薄膜的組成和形態得以精確監測。因此，這類反應堆經常用於生產半導體器件、集成電路以及其他各種產品。