二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 110128 #293774586 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS 110128是一種高性能化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於在半導體基板上精確高效地沈積薄膜。這種先進的設備被用於半導體器件的制造過程，如集成電路、內存芯片和其他電子元件。反應堆配備了最先進的特性和技術，保證了膜沈積均勻、通量高、膜質量優良。室內設計經過優化，最大限度地減少了顆粒汙染，為沈積過程提供了清潔、受控的環境。該設備能夠沈積各種材料，包括二氧化矽（SiO2）、氮化矽（Si3N4）以及半導體制造中使用的其他薄膜材料。AMAT 110128反應堆的關鍵部件之一是氣體輸送系統，它精確控制過程氣體流入腔室的流量。該單元包括質量流量控制器、壓力調節器和其他組件，用於準確輸送沈積過程所需的氣體混合物。室內氣體分布的均勻性對於在整個基板上實現一致的薄膜性能至關重要。反應堆還配備了溫度控制機，在沈積過程中將基板保持在所需的溫度。精確的溫度控制對於控制沈積膜的生長速度、膜形態和電性能是必不可少的。該工具可在高溫下操作，使具有特定特性和特性的先進材料沈積。為實現良好的膜均勻性和厚度控制，反應器具有一個旋轉基板支架，確保基板表面均勻暴露於工藝氣體。這種旋轉機制有助於最大限度地減少底物上薄膜性能的變化，並提高整個過程的可重復性和產量。此外，APPLIED MATERIALS 110128反應堆裝有等離子體增強型CVD（PECVD）工藝的等離子體源。等離子體活化增強了工藝氣體的反應性，與熱CVD工藝相比，允許較低的沈積溫度、較高的增長率和改進的薄膜質量。可調整等離子體源以產生不同的等離子體化學，以滿足特定的薄膜沈積要求。總之，110128反應器是半導體制造中沈積薄膜的通用先進工具。其精確的控制特點、先進的氣體輸送資產、溫度控制機制和等離子體源使其成為一個可靠高效的反應堆，可用於廣泛的沈積過程。半導體制造商可以受益於該反應堆提供的高性能和工藝靈活性，以滿足半導體行業的苛刻要求。
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