二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161 待售
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ID: 9156161
PECVD Chamber
Front
Front Monitor: Ok
Back Monitor: Ok
Load port: Sensors, Cass plate
Signal tower: R,Y,G,W
Robot: ATM robot & Vacuum chuck
Slit door: Open
Laminar flow: Load port laminar flow
Wafer transfer module
Robot: No
Baratron gauge: No
Buffer door lift : Ok
Buffer Isolation valve: Ok
Buffer throttle valve: Ok
Cool chamber: Ok
Process module
CH# A RF Match: HMN302D
CH# B RF Match: Ok
CH# C RF Match: Ok
CH# D RF Match: No
CH# A Gate valve: No
CH# B Gate valve : AV-4.0-MOD
CH# C Gate valve: Ok
CH# D Gate valve: Ok
CH# A Throttle valve: 153F-4-100-2
CH# B Throttle valve: No
CH# C Throttle valve: Ok
CH# D Throttle valve: Ok
CH# A Heater lift: No
CH# B Heater lift: No
CH# C Heater lift: Ok
CH# D Heater lift: No
Controller Board: DI/O,AI/O : Ok
DC power supply: Ok
CH# A Baratron gauge: MKS
CH# B Baratron gauge :Ok
CH# C Baratron gauge : Ok
CH# D Baratron gauge : Ok
Regulator box
Span sensor: Ok
Manual v/v & Regulator: Ok
Gas panel
NF3: 2SLM
Ar: 300SCCM
NH3: 2500SCCM
N2: 5SLM
SiH4: 500SCCM
1%PH3/H2: 1SLM
H2: 3SLM
B2H6
System control rack
Interface board: DI / O, Seriplex, VME, CPU
DC power supply: Ok
Pump control module: Ok
Servo DC power supply: Ok
Main frame
Power rack
Generator
Chamber A RFPP RF20S: 2666
Chamber B RFPP RF20S: NPG2K10S005
Chamber C RFPP RF20S: No
Chamber D RFPP RF20S: No
Pump
Chamber A QMB500 + QDP80
Chamber B QMB500 + QDP80
Chamber C QMB500 + QDP80
Chamber D QMB500 + QDP80
TM pump QDP40
Load/Lock chamber QDP40
Scrubber:
Main scrubber CDO859
Back-up scrubber CDO858
Heatexchanger SPEED-7000
Missing and ETC parts :
ETC: Part step ( scaffolding ).
AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 1600反應堆是為半導體應用而設計的大型化學氣相沈積(CVD)系統。它是生產薄膜材料和結構的最先進的工業反應堆。系統先進的沈積技術提供了卓越的單晶片均勻性、優異的工藝控制、可靠的操作和低成本的擁有。反應堆裝有由熱電子槍放大器連接的大功率氣冷電子槍,允許精確控制基板溫度、腔室壓力、氣流和沈積速率。蝕刻項圈有助於減少顆粒汙染,而基於金屬滾筒的設計進一步增強了均勻性和銅基薄膜。該反應堆可容納直徑最大152mm的多種基材,包括矽片、砷化氙、石英、玻璃和氧化鋁。它可以加工多種材料,從鋁、銅、鎳等半導體金屬到氮化矽、氧化鋁等電介質。該系統配備了多項高級功能,如自動調源、真空電平控制、等離子體診斷、自動氣體輸送和測試腳本,以幫助簡化流程。彩色觸摸屏顯示屏和直觀的圖形用戶界面(GUI)允許用戶快速準確地監控運行的所有參數。此外,AKT 1600反應堆還有各種備選方案,包括多個負載鎖定室、平行處理室以及用於樣品預處理和後處理的大氣模塊。總體而言,AMAT AKT1600 CVD系統能夠生產高質量、低成本、均勻性極好的薄膜。其先進的功能和易於使用的圖形用戶界面使其成為需要卓越沈積質量和可靠性的工藝的理想選擇。
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