二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9195141 待售
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ID: 9195141
PECVD System
(4) Chambers
Gas box
Gas distribution cabinet
(4) Acid cabinets
Flammable cabinet
(2) Stainless steel tables
RASCO WTC-2000RS-AKT Water chiller
AMAT RFPP RF20 Power source / Supplies rack
Capable of transferring: 300x300 mm Square glass substrates
With single loader module to load lock chamber
13-Slots load lock chamber cassette
IMI Using chamber B
With RF power
Wafer handler
Spare parts
Manuals
Power supply: 208 V, 60 Hz, 300 Amps, 3 Phase
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600是一種等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器設備，用於沈積薄膜，如電介質、導電材料和光學應用材料。該系統以高達200 W的射頻功率運行，能夠沈積具有優異特性的薄膜。PECVD工藝用於沈積多晶矽、非晶矽、氮化矽、氧化矽的薄膜。該裝置利用射頻驅動的源氣體模塊，將等離子體和熱過程結合在一起，在較大的基板區域上沈積均勻、高度保形的薄膜。基材尺寸可達直徑300毫米。此外，反應性氣體通量是可調的，從而能夠精確控制薄膜的生長。AKT 1600包含一個用於生成沈積過程中使用的等離子體的RF天線。機器由兩臺額定功率為200 W的大功率射頻發電機供電。外部射頻源通過射頻線圈連接到內室，作為射頻發電機和等離子室之間的通信鏈路。該工具的等離子體腔室被設計用來容納多種基質，用於多區沈積。腔室被一個石英鐘形罐包圍，用來為等離子體沈積過程提供惰性環境。鐘形罐具有可調氣體入口資產，用於通過控制源氣體的流速來控制蝕刻/沈積過程。對於溫度控制，該車型配備了高溫雙區加熱元件。低溫區用於啟動和穩定沈積過程，而高溫區則用於優化過程。AMAT AKT1600還有一個可調節的排氣設備，用於控制腔室內部的壓力，並協助清除過程中的副產品。總體而言,APPLIED MATERIALS AKT1600是一個可靠的PECVD系統,為用戶提供了一種可靠、通用且高效的方式來存放優質薄膜。憑借其可調的氣體進排氣單元、大功率射頻發電機、兩區加熱元件，用戶可以輕松控制沈積過程，從而產生具有優良特性的薄膜，廣泛應用。
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