二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9364083 待售
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ID: 9364083
PECVD System
Substrate size: 330 mm x 430 mm
Maximum substrate thickness: 4.0 mm
Mainframe
Gas panel
Power transformer
Heater exchanger
Remote service module
Vacuum pump.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 1600反應堆是一種等離子體蝕刻、沈積和退火設備,用於材料加工應用。憑借其先進的納米技術能力,該反應堆用於涉及薄膜沈積和蝕刻的研發項目。AKT 1600利用感應耦合等離子體(ICP)源,產生高溫、高能離子和其他種類,可用於蝕刻多種材料。這個ICP電源由高頻RF電源供電,可以調整以調整傳遞給等離子體的功率。AMAT AKT1600能夠在75至1200攝氏度的高溫下工作。APPLICED MATERIALS 1600是一個雙室,水平配置的反應器,帶有一個負載鎖定室。鎖載室用於在兩個腔室之間運輸晶片載體,而不會使腔室或設備暴露於外部汙染。這樣可以防止任何空氣或其他汙染物進入加工室。AMAT 1600能夠沈積金屬、聚合物、電介質等多種薄膜。這是通過將氣體帶入機組的氣體註入系統,結合ICP機的源功率,可以改變沈積物質的密度來實現的。產生定向視線(DLOS)的先進加熱元件允許將沈積的薄膜或其他材料退火在腔室中,並且可以設置五分鐘到幾小時之間的時間。1600能夠實時控制工藝速率和組成,這使得它們能夠精確。這種精確度,加上先進的加熱元件,可以保證良好的過程重復性和可靠性。該工具還配備了種類繁多的診斷能力,如相機成像和紅外成像。總體而言,AMAT/AKT AKT1600反應堆是用於材料加工應用的先進工具。它具有ICP資產和DLOS加熱能力,能夠產生精確的蝕刻、沈積和退火結果。這些特性使其能夠產生具有可重復結果的堅固結構,確保其最終產品的質量和可靠性。
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