二手 AMAT / APPLIED MATERIALS (3) Chambers for P5000 #293636202 待售

AMAT （3） P5000反應堆室是專門用於芯片級制造的高性能、三室、高級工藝工具。此設備以最高的質量提供更高的吞吐量和更快的周期時間,以滿足最苛刻的客戶要求。這種P5000反應堆提供獨特的特性和能力，使它區別於競爭系統。其中最令人印象深刻的是用於快速和可重復過程的高級多級系統。這三個腔室可配置為蝕刻和沈積，另外還有濺射沈積、額外的外部處理能力和先進的冷卻系統等工藝。通過將硬件和軟件創新相結合,該設備可實現最大的吞吐量和吞吐量管理,從而實現過程優化。P5000的工作流程旨在產生可重復的高質量結果,並具有一致可預測的周期時間。該工藝將腔室模塊和序列真空循環、溫度控制、遙控臺處理和傳感與工藝編程相結合。它還提供自動選擇性重復，允許用戶運行多個參數不同的相同配方。該P5000擁有一流的室內溫度、壓力控制和均勻性。腔室溫度控制是通過先進的PID 18區溫度控制機實現的，而壓力控制提供了在廣泛的壓力範圍內穩定和可重復的壓力剖面。此外,該工具還包括蝕刻室和沈積室的獨特熱映射功能,可在整個晶片中更好地控制關鍵晶片級參數並實現重復。此熱映射功能還提供了更快的周期時間和更大的過程余量。該P5000還包括精密晶圓處理和放置資產、帶有隨機訪問功能的自動加載/卸載、實時目標層監控以及高級流程監控等附加功能。此外,該模型還具有先進的診斷和故障驗證功能,可提高流程產量和可靠性,並具有高級數據采集和檢索功能,可進一步優化流程。總體而言，P5000反應堆應用材料（3）室是一種高性能、三室的工具，它以最高的質量提供更高的吞吐量和更快的循環時間，同時提供一流的室內溫度和一致的工藝余量。該設備具有獨特的熱映射特性，有助於最大限度地提高工藝產量和可靠性。該反應堆還具有支持多種配置的靈活性，為用戶提供了對其過程的終極控制和可重復性。