二手 AMAT / APPLIED MATERIALS (3) CVD Chambers for P5000 #293660269 待售

AMAT （3）用於P5000的CVD腔室可實現化學氣相沈積（CVD）,使用戶能夠制造各種用途的薄膜。該CVD反應器具有三個具有個性化沈積帶的腔室，適合用於金屬、氧化物、氮化物和其他材料的沈積。該P5000成功地將蝕刻和CVD過程的幾種技術結合到一個系統中,旨在提高吞吐量和生產率。應用材料P5000的CVD室有三個沈積室：一個低溫沈積室、一個高溫沈積室和一個等離子體增強沈積室。低溫室配有加熱晶圓傳輸系統，使得從液體和固體來源沈積的材料的溫度範圍為20-200 °C。高溫室允許在高達1000 °C的溫度下沈積，從而能夠沈積各種材料，如金屬、氮化物、氧化物、合金和聚合物。第三室是等離子體增強沈積室，它利用等離子體誘導的氣相沈積過程來處理無法從液體或固體來源成功沈積的材料。這三個腔室各配有自己的個性化射頻電源，從而便於優化工藝。晶圓叠加和對齊配方的高級軟件和數據庫有助於確保用戶最高級別的過程控制。所有方便用戶的測量和分析功能都將過程時間減到最小,並使用戶能夠準確控制基板溫度和沈積速率。AMAT/APPLIED MATERIALS （3） CVD Chambers for P5000支持各種材料和工藝類型,允許各種產品可能性。這座CVD反應堆還為用戶提供了多區連續工藝，有助於創建更復雜的薄膜結構和其他結構，如納米尺度特征。該室還包括標準的安全特性，確保操作員在操作過程中得到充分的保障。AMAT （3） CVD Chambers for P5000提供先進的CVD技術包,用戶可以在其中將各種材料存放在不同的基板上。這種先進的CVD反應堆為用戶提供了高生產力、靈活性和易用性，同時保持了成本效益。所有這些功能結合在一起，使P5000成為任何需要可靠和高效的CVD反應堆的企業的絕佳選擇。