二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380510 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500是一種用於薄膜沈積的高性能高密度等離子體增強化學氣相沈積（HD PECVD）反應器。它設計用於將薄膜沈積到尺寸不超過6英寸的晶片上，並且是完全自動化的，允許沈積具有高重復性和重復性的高質量薄膜。PECVD工藝能夠通過活化和混合氣體來沈積薄膜。PECVD過程在反應堆的腔內進行，也稱為等離子體腔、反應腔或沈積腔。沈積中使用的材料通常是前體，作為氣體引入等離子體腔。該室包含一個電極系統，產生一個產生高密度等離子體的電場，該等離子體將前體分解為活性物質，使其沈積到放置在該室底部的晶片基板上。PECVD工藝可以在25至500°C的溫度下以及在惰性氣體和反應性氣體的各種壓力下進行。等離子體的密度以Watt/cm3為單位進行測量，並受到電路功率容量和材料電感的限制。AKT 3500采用八個電極系統設計，在晶圓基板上實現了極好的均勻性和步進覆蓋。電極系統和可變氣體壓力的結合，可以精確控制沈積膜的質量和厚度。基於矽的VMOS電容器在PECVD反應器的建造中采用，在50 kHz的性能下提供六伏。先進的冷卻系統和經過優化設計的電極的結合確保了高等離子體密度和穩定性，而計算流體動力學（CFD）使反應堆的性能得以優化。此外,PECVD反應器還與自適應控制厚度均勻性（ACTURO）技術兼容,該技術采用內置算法控制沈積過程。這一過程有助於優化整個晶片的沈積均勻性，並補償每一個單獨的沈積需求，如流速、壓力和等離子體功率。AMAT AKT-3500是一種尖端的PECVD工具，可以重新編程以調整溫度、壓力、氣流和等離子體功率，以適應各種應用。其在各種基板上產生均勻、可重復性能的能力，使其在微電子、醫療設備、產品等多個行業廣泛用於薄膜沈積。