二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380523 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500反應器是一種低壓化學氣相沈積（CVD）設備，設計用於處理圖案化和非圖案化半導體晶片。該系統能夠在晶片表面上沈積多種摻雜劑和電介質，以增強電氣和物理性能。該裝置設有一個熱墻CVD室，該室配有一個石英可插入組件（QIC），允許過程氣體濃度的快速、可控變化。這允許多用途層的沈積，以適應各種不同的應用。AKT 3500反應堆還具有低湍流環境，提供高度均勻和可重復的沈積壓力。這是處理高頻和射頻器件以及低溫電介質的理想選擇。該機配備溫度範圍為50-800C，壓力範圍為0.1-10托，並配有多個工藝氣體閥和質量流量控制器的氣體處理工具。該資產能夠在400mm晶圓和8英寸晶圓配置下運行，並且可以配備先進的溫度控制包。AMAT AKT-3500反應器是各種半導體制造應用中易於使用和可靠的工藝模型。該設備還具有可調焦點和開放式腔室設計，有助於減少交叉汙染和防止產生顆粒。該系統還配備了快速可靠的Open-Loop Stepper/Scanner，允許高吞吐量處理。該單元提供簡單的晶圓控制選項,允許同時運行多個晶圓配方。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500反應器是將摻雜劑、電介質和其他材料沈積在半導體晶片上的理想工具。其先進的特點和穩健的設計使其成為半導體加工的理想選擇。該機可靠、可重復、易用，適合各種不同的半導體應用。