二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 60KO #9226836 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9226836
優質的: 2007
PECVD System
Gen 8.5
Maximum substrate size: 2200 mm x 2600 mm
(7) Process chambers with TSLL
Suitable for HIT/HJT cells application
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 60KO是一種專為生產半導體和微電子技術先進材料和塗層而設計的真空沈積/反應性濺射設備。該系統是為精確控制沈積反應而構建的,以產生高質量、高產量、可重復的結果。AKT 60KO是一種高性能的PVD(物理氣相沈積)沈積單元。該機由濺射沈澱源和可調質量流量控制器組成,以精確控制氣體流量。還提供了循環氣體過濾工具,以確保清潔氣體供應。該資產還具有可調的高真空湍流抑制模型,是實現高質量目標材料沈積和低氣相雜質的關鍵要素。AMAT 60KO設計用於沈積各種材料,包括金屬、陶瓷和類似金剛石的碳。它也可以用於反應性濺射,允許廣泛的材料被沈積在基板上。為精確控制沈積速率提供了可調電源設備.該系統還包括一個可選的反應性氣源,用於在濺射過程中保持清潔的沈積室。沈積室本身的設計是為了保持較高的腔室清潔度。內部采用不銹鋼制成,內襯耐用瓷磚。可調氣體噴射裝置允許精確控制反應性或非反應性氣體的流動。腔室還可以配備可選的原位基板冷卻機,以提高沈積膜的質量。60KO還包括一個高級軟件界面,允許用戶根據特定需要調整沈積過程。也可以對沈積的定制配方進行編程。該工具還具有自動端點檢測功能,便於監測沈積過程。總體而言,APPLIED MATERIALS 60KO是一種先進的高性能PVD/濺射資產,旨在生產用於半導體和微電子技術的先進材料和塗層。它具有一系列特點,可以精確控制沈積過程,可調節的高真空湍流抑制模型,以及先進的用戶界面。該設備的設計可提供高質量、可重復的結果,並具有極低的氣相雜質。
還沒有評論