二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 7710 #9095871 待售

ID: 9095871
優質的: 1996
Epitaxial (EPI) reactor 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS 7710是一種化學氣相沈積(CVD)設備,用於半導體工業中,用於基板上材料的生長。AMAT 7710是一個單晶圓熱CVD系統,旨在滿足最具挑戰性的沈積需求,對工藝參數進行精確的控制和可重復性。所得膠片的質量、均勻性和可重復性在業界是無與倫比的。該單元具有一個石英反應堆腔室,可以容納一個單一的4"或8"晶片,而Czochralski方法最多可以容納兩個8"晶片。APPLICED MATERIALS 7710 CVD機提供了一個集成的流體流量控制,有兩條獨立的氣線,一條用於帶有精確質量流量控制器的載氣,另一條用於具有獨立流量控制器的摻雜前體。該工具配備了若幹工藝參數,包括溫度、壓力、反應物流量、輻射計和用於清洗的HMDS,以及兩種預先設定的用戶定義配方。對於低溫沈積需要,工藝室溫度可設置為低至50°C,高至950°C。7710石英室提供快速熱回收和廣泛的工藝配方。集成的晶圓溫度控制允許嚴格控制晶圓表面溫度,並確保整個晶圓上的薄膜均勻。資產還可以被編程為暫停和恢復沈積,以減少薄膜生長過程中的非均勻性或飽和度。此外,基板與原料的接近也不需要額外的等離子體系統。CVD模型還具有提供實時流程監控的流程控制軟件。AMAT/APPLIED MATERIALS 7710是為了可靠性而設計的,維護容易與元件的重復性為快易更換。全自動門鎖、警報和緊急關閉開關等安全功能確保設備安全可靠。該系統還具有極高的效率,氣體消耗率低,石英室捕獲氣體後效應,以確保高質量的沈積。AMAT 7710非常適合研究和開發,其可靠性、質量和可重復性使其成為制造一些最精確和最先進的半導體器件的理想選擇。
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