二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 7710A #9095861 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A是一種先進的、高性能的化學氣相沈積（CVD）反應器，用於薄膜、電介質、氧化物和氮化物等原子層材料的沈積。該工具廣泛應用於半導體工業中，用於微量和納米級材料的生長。AMAT 7710A反應器是一種兩室水平CVD系統，設計用於在腔室之間自動固定和晶圓轉移，而不會破壞真空。它擁有堅固的不銹鋼內室，配有熱解碳襯裏、管狀電極和陶瓷加熱管，提供高純度、超低溫、高溫的CVD工藝。Wafer Plate-in-Range允許使用30毫米至125毫米的三個晶圓直徑，以及高達1.2毫米的厚加工晶圓和高達0.300毫米的薄膜基板。APPLICED MATERIALS 7710A具有強大的質量流控制器,可精確控制10ccm至1800cm範圍內的過程氣體和雙晶石英窗口,以便在沈積過程中進行完美的檢測器觀察和監測。加熱的腔室周長在晶片上提供均勻的溫度控制，從而產生低排泄率、精密的過程。該反應器還采用了基於溫度的氣體開關，由於薄膜應用的晶圓熱管理較好，提供了良好的應力控制。7710A是一個全自動CVD系統與可編程配方軟件.該反應堆的溫度範圍低至200℃，最高可達900℃，能夠在高達10Torr的高壓下運行。提供優異的熱均勻性、沈積速率和外延結晶度。特定於模型的特性增加了處理的穩定性和重復性，實現了較低的擁有成本，同時保持了嚴格的過程控制。內部液冷冷卻屏蔽保護用戶在沈積過程中免受輻射和噪聲的影響。AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A反應堆適用於使用CVD技術在多種基材上可靠生長優質材料。該工具將提供精確的過程控制、出色的排便、增加的吞吐量和高產。利用CVD方法，這種反應堆可用於制造各種應用的材料，如制造光電、磁性、顯示和記憶裝置。