二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 7800 #9181899 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS 7800
ID: 9181899
晶圓大小: 6"
Epitaxial (EPI) reactor, 6".
AMAT/APPLICED MATERIALS 7800是一種前沿、高性能的工具,用於制造超高速和超寬集成電路。它是一種化學氣相沈積(CVD)PECVD反應器,設計用於沈積在300°C至550°C溫度下具有極好均勻性的薄膜。反應堆設有兩個差分泵送級,在整個晶片上提供優越的沈積均勻性。它的自動化控制系統直觀易用,允許快速的過程斜坡上升和較低的過程優化時間。AMAT 7800能夠沈積具有非凡均勻性的薄膜,包括超薄門氧化物、高溫屏障材料、高介電常量電介質、金屬觸點和金屬互連。Ultrathin gate氧化物在晶體管中尤為重要,High-k電介質對於進一步縮小到更精細的節點至關重要,而METAL接觸和互連是實現互連金屬化所必需的。APPLIED MATERIALS 7800能夠沈積多種材料,包括但不限於二氧化矽、氧化​​放子、氧化移子、氮化硼、氮化鈦、氮化ha和其他介電材料。7800是超薄超寬器件和電路大批量生產的理想選擇。它具有熱穩定性,能夠在大型晶片上產生高質量、一致的沈積物。利用其高性能的PECVD腔室,可以對沈積過程進行精確的溫度控制,允許精確的薄膜厚度和均勻的沈積。直觀易用的界面使不同晶圓尺寸的不同材料的沈積過程易於調整。自動化控制系統允許快速的過程提升和較低的過程優化時間。總體而言,AMAT/APPLICED MATERIALS 7800是一種先進的CVD PECVD反應堆,非常適合於大批量生產超薄型設備和電路。它具有良好的沈積均勻性和對沈積過程的精確溫度控制,使得微加工的質量和輸出水平最高。
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