二手 AMAT / APPLIED MATERIALS AE Minos chamber for Centura DPS II #293650481 待售

AMAT AE Minos DPS II Chamber是一種高性能等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，設計用於制造半導體器件。AE Minos DPS II能夠對半導體器件中使用的薄膜材料進行可靠、高度可重復的處理。腔室提供先進的均勻性控制，快速沈積速率，高吞吐量。AE Minos DPS II具有平坦的方形加工室，可實現均勻性，提高晶片到晶片的可重復性。該腔室配有先進的三點均勻性控制，允許操作員監控和調整參數，以提高薄膜沈積的均勻性。腔室還配備了高性能等離子體系統，提供增強穩定的均勻性。該系統還包括一個3區偏置控制，以幫助減少反應性離子侵蝕。AE Minos DPS II結合了靈活的沈積架構，允許操作員向上縮放或向下縮放腔室的吞吐量和沈積速率。該室具有先進的工藝靈活性和沈積各種不同沈積工藝的薄膜材料的能力。另外，該腔室可以處理多種底物，包括矽、砷化氙、磷化銨以及其他化合物和氧化物。AE Minos DPS II配備了多個先進的過程控制和監控系統，包括邊緣檢測、均勻性控制、自動溫度控制和負載鎖定。AE Minos DPS II還具有先進的冷卻和加熱系統,可在加工過程中控制室內溫度,從而確保均勻和一致的沈積。AE Minos DPS II的設計是為了最大限度地提高生產率和促進快速、精確的薄膜沈積。AE Minos DPS II具有靈活的體系結構、先進的工藝控制和高吞吐量,能夠高效、高性能地處理各種半導體薄膜和基板。