二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 3500 SC PECVD #9011154 待售

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ID: 9011154
優質的: 2008
PECVD system Supply: 208 ± 5%, 3 phase, 5 wire Full load current: 204 A, 50/60 Hz Panel main protection device rating: 240 A, 65 kA AIC Ampere rating of largest load: 100 A Panel short circuit rating: 10 kA RMS sym 2008 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 3500 SC PECVD是一種下一代生產反應堆,設計用來生產非常薄的介電等材料的薄膜。該反應堆利用一種稱為等離子體增強型化學氣相沈積(PECVD)的工藝,在玻璃、塑料和金屬等基板上制造出高質量、低成本的薄膜。反應堆設有低壓等離子體室,分為真空和化學反應的四個不同的室。它還含有磷和氮的沈積源,使用戶可以沈積氧化矽等薄膜。等離子體室配有氟龍射頻源,使沈積溫度較低,以保證優秀的薄膜性能和基板相容性。總腔室體積也減少了薄膜中的空隙,意味著即使薄膜沈積時,薄膜也能提供優異的電性能以獲得最佳性能。反應堆設有一個創新的、集成的、完全受控的源氣體輸送設備,允許用戶為各種應用定制薄膜前體。該系統還旨在最大限度地提高氣體利用率和降低工藝成本。此外,反應堆包括一個自動清洗序列,以去除有機材料,提供清潔,幹燥的過程室可重復過程運行與均勻膜。AKT 3500 SC PECVD能夠生產最小厚度為0.2微米的薄膜。反應堆還配備了反應性氣體註入單元,允許精確控制沈積參數,包括薄膜光學密度和組成。這臺機器最大限度地提高了膠片質量,提高了膠片在基材上的均勻性.總體而言,AMAT 3500 SC PECVD是一種先進的生產反應堆,旨在創造具有改進的均勻性、厚度和電性能的高質量薄膜沈積。該反應堆利用先進技術減少排放和成本,從而提高生產能力。由於其自動化系統和精確的源控制,反應堆為薄膜沈積工藝提供了可靠、高效和經濟高效的解決方案。
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