二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 4300 / 5500 #293661852 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300/5500反應堆是一種高溫化學氣相沈積（CVD）反應堆，適合商業規模生產半導體、光電等電子元件。這座反應堆設計用於將各種薄膜材料，如金剛石狀碳、氮化矽、碳化矽等，沈積在包括矽、砷化氙和藍寶石在內的基板上。AKT 4300/5500反應堆采用熱壁設計，具有射頻感應加熱和數字溫度控制，以創造所需的工藝溫度。AMAT 4300/5500反應堆可達到高達1,250°C的溫度，這對於某些類型的薄膜沈積過程是必需的。這種能力是由閉環氣體控制系統和感應耦合射頻等離子體實現的，該等離子體在整個反應室中提供穩定、均勻的溫度。4300/5500反應堆的大型圓柱形反應室可以加工直徑達350毫米的底物，從而能夠制造大型部件。先進的轉子/定子泵送系統可提供8,000升/分鐘的最大泵送速度，並可與氫氣或氙氣分壓技術結合使用，以創造某些類型的薄膜沈積所需的精確化學環境。APPLICED MATERIALS 4300/5500反應堆還具有可選的兩門冷墻，以增加加工靈活性。此功能使客戶能夠在散熱和非散熱過程之間切換而不會失去真空,從而在樣品加載和處理方面提供了極大的靈活性。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 4300/5500反應堆提供全面的數字過程控制，便於規劃和優化沈積配方。該反應堆配有Easy-LANG語言，用於設置、監測和驗證所有過程步驟，以及重復復雜的沈積運行。AKT 4300/5500反應堆可用於多種研究和生產應用，包括半導體和有機層的沈積、電介質和金屬的沈澱、納米晶體和納米線。這種反應堆提供卓越的性能和可靠性，具有高壓射頻源和先進的過程監測功能，使研究人員能夠取得卓越的成果。AMAT 4300/5500反應堆是需要高溫CVD工藝的商業應用的理想解決方案。