二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ALD Chamber for Endura CL #293663271 待售

AMAT Endura CL ALD反應堆量身定制，為半導體工業的應用提供最高質量和最精確的原子層沈積（ALD）。該ALD腔室的設計盡可能高效和經濟高效，並結合了許多先進的功能，使其成為創建可靠和一致層的理想選擇。Endura CL反應堆具有增強的設計，為沈積提供了優越的環境。其鍍金內部和低距離泵浦結構增加了沈積吞吐量，有助於減少不良反應副產物。這個腔室配有先進的基於Web的控制系統，可以方便地監測過程時間、壓力和溫度。此外，它的流擬合設計與氦氣、氮氣和純氫系統完全兼容，確保它可以被各種工藝使用，而無需額外的基礎設施。該腔室還設有一個大的面板視圖窗口和許多端口，用於氣體和冷卻管理。Endura CL反應器針對均勻的前體沈積進行了優化，產生了均勻的界面，具有較高的可達到的器件性能系數。它還具有清潔/幹燥的前體途徑，以及快速變化的晶圓支撐和沈積階段。這一腔室的設計始終如一地提供均勻的ALD薄膜，即使在最具挑戰性的基板上也是如此。作為工業機械的一部分，恩杜拉CL反應堆設有用於基板轉移的假地板室和隔離室。它們為腔室提供了一個幹凈、無幹擾的環境，有助於防止基板的汙染。此外，這臺機器還配備了一個凹入式基板加熱器，可以精確控制工藝溫度，從而有助於保持ALD工藝的準確性。AMAT/APPLIED MATERIALS ALD Chamber for Endura CL是市場上最先進的ALD系統之一。因此,在創建用於半導體行業的不同層時,它提供了最高的質量和精度。由於其先進的設計和增強的特點，該ALD腔室被優化為均勻一致的ALD膜沈積。